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我們的UltraBright微焦點系統是90kV、80W的X射線源,設計用于高功率、通量密度和焦點尺寸非常重要的應用。
UltraBright微焦點系統形成的焦點尺寸≤10微米,采用端窗設計,形成的投射距離(FOD)為4mm,可保證放大倍數和圖像質量。UltraBright系統通過外部高壓智能控制器進行操作,該控制器能夠在*控制“亮度”的情況下對10kV~90kV的高壓和0.33-2毫安的電子加速束電流進行隨意調節。智能控制器可計算在給定功率設置值下、zui大通量輸出時的焦點尺寸,并可安裝支持遠程控制的UltraBright個人電腦軟件,因而,該系統是大多數研究應用的理想解決方案。
UltraBright非常適用于X射線微斷層成像、X射線微熒光分析、X射線衍射分析和X射線成像等。多篇科學論文論及了UltraBright的使用性能,在2000年11月發表于《科學儀器評論》的《用于大分子晶體學的緊湊系統》一文中,論證了UltraBright與多毛細血管光學器件的組合使用,其射線通量率比5kW旋轉陽極系統還要大。
本品優勢為:
1、投射距離?。?/span>FOD)——放大倍率高、圖像質量好
2、高功率——高通量應用領域和實驗的理想選擇
3、焦點小——X射線光學器件的理想接口
4、數字接口——簡化通信
5、編程控制——研究領域的理想選擇
6、緊湊輕型設計——便攜式應用的理想選擇
其詳細介紹:Ultrabright.pdf
工作電壓: 90kV
功率 : 80W
焦點尺寸: 15µm
投射距離: 4mm
靶材料 : W, Mo, Cu
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