SUNANO將出席2016石墨烯高峰論壇

    為推進中國石墨烯等碳納米材料的研究和產業發展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學深圳研究生院舉行。

    本次論壇將繼續以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業化應用開發等為主題，多個國家和地區的學者和產業界人士，從學術和產業化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進展和產業發展現狀，為國內外杰出科學家與企業家搭建一個交流與合作的平臺。

巨納集團SUNANO GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國*石墨烯國家標準的*起草單位和組長單位，除了與國內外專家學者交流之外，還會為大家介紹zui的多密度等離子體CVD系統-NEXTCVD。如果您正從事相關的工作，歡迎到現場與我們交流。

多密度等離子體CVD系統-NEXTCVD

SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優點，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實現穩定的等離子體輔助CVD，具有優良的材料處理性能和廣泛的應用范圍，是目前功能zui強大的等離子體CVD系統。

       主要特點 

• 主要用于石墨烯表面層數減薄、刻蝕、修飾、改性
• 多種工作氣體下產生穩定的等離子體輝光放電： 
• 氬氣、氫氣、氮氣、氧氣、硅烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化   硫、四氟化碳、二氧化碳等等。
• 等離子體密度可調，變化范圍大（109-1013 cm-3）
• 可與磁控濺射同時工作形成共沉積（zui多可與四個磁控濺射靶材形成等離子 體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜 

廣泛的應用范圍 

• 光伏行業（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構與刻蝕）
• 新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備）
• 半導體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等）
• 納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構造 

熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團展臺，溝通交流，共商合作大業！